![微晶硅薄膜高速沉积系统 [型号:4室PECVD，8*10（-5）Pa 非标]](/d/file/2017/58a0b903f3a4587ec9a7d83223dd31cd.jpg)
仪器名称：微晶硅薄膜高速沉积系统
仪器型号：4室PECVD，8*10（-5）Pa 非标
仪器类型：电子产品通用工艺实验设备
应用领域：物理学材料科学
所属单位：河北大学
仪器产地：中国
仪器价值：225.95万
仪器购买时间：2013-12-26
主要技术指标
4室PECVD，真空度≤8*10-5Pa
主要功能/应用范围
微晶/非晶硅基薄膜，硅基化合物薄膜等PECVD沉积
服务内容
暂无
服务的典型成果
暂无
对外开放共享规定
不共享
参考收费标准
暂无
共享仪器单位信息仪器联系人：
刘海旭
联系电话：
0312-5079560
电子邮箱：
传 真：